光学气体分析仪
Quantus® HP100
实时泄漏检测、端点检测和过程监控
Product configurator
Gemini™ MxG5xx
Type
Sensor version
Ionization chamber
Emmision current
Flange connection to vacuum chamber
Switching function
Electrical connection
Digital interface
Analog output signal
Request
Your configuration has been successfully sent!
INFICON Quantus HP100气体分析仪基于自等离子体光发射光谱技术(SPOES),旨在提供半导体制造过程中的实时泄漏检测、端点检测和过程监控。Quantus HP100具有出色的灵敏度,外形紧凑,提供宽广的操作压力范围,无需昂贵的泵,因此非常适合大多数半导体工具的过程监控和保护。
特点
- 氩气的操作范围为1 Torr - 450 Torr,氮气的操作范围为1 Torr - 120 Torr(其他气体种类则有所不同)
- 低检测限<1 ppm
- 使用标准KF25连接,安装方便
- 快速采样(最大20赫兹)
- 占地面积小(高x宽x长):6.4 x 6.0 x 8.3 in. [162 x 153 x 210 mm]
- 低维护,不需要泵或消耗品
- 方便的现场可更换的等离子池
- 为您的特殊工艺需求提供全球专家支持
规格
操作压力 | 1 Torr - 450 Torr (取决于应用) |
光谱仪性能 | 200至850纳米波长(紫外-可见光) 16位全尺度分辨率,3648像素 |
检测极限 | < 1 ppm (取决于应用) |
曝光时间 | 最少1毫秒 |
真空配件 | KF25 |