气体分析
了解我们专为各种工业应用（包括但不限于半导体、电池、显示器、能源、制药和医疗、研究和学术以及一般真空镀膜行业）提供精确可靠的气体分析而设计的先进气体分析仪系列。探索我们的解决方案，找到适合您需求的合适气体分析仪。
重新设置过滤器以获得结果。
多压ALD/CVD和蚀刻先进工艺专家
- xParts 涂层可延长在恶劣化学环境下的使用寿命
- 多压力采样入口
- 检测限低于10 ppb
- 行业领先的泵送速度
单压ALD/CVD和蚀刻先进工艺专家
- xParts 涂层可延长在恶劣化学环境中的使用寿命
- 高温单压入口
- 检测限低于10 ppb
- 行业领先的泵送速度
用于高级过程监控的紧凑型过程专家
- HexBlock多压力采样入口
- 检测限低于200 ppb
- 行业领先的抽气速度
- 系统体积减少30%
极端PVD过程监控四极杆质谱仪
- 行业领先的最大工作压力
- 可选的超压隔离阀联锁
- 扫描量高达100 amu
高性能四极杆质谱仪
- 90年代的动态范围
- 行业领先的数据收集率
- 可更换的传感器和电子设备
- 扫描量高达300阿姆
多用途四极杆质谱仪
- 90年代的动态范围
- 可更换的传感器和电子器件
- 可选的连续动态电子倍增器
- 扫描量高达200 amu
在目标压力范围内的过程监测
- 有针对性的高压工艺
- 单一压力采样入口
- 检测限低于1ppm
- 集成的差分泵系统
QMG 700分析质谱仪突破检测障碍，将您的工艺推向创新的新高度
- 质量范围选择从1-512 amu
- 超过90年的动态范围
- 极快的测量速度： 0.125 ms/amu
- MDPP < 10E-16 mbar
INFICON Augent® 光学等离子体真空计是一种紧凑、智能的真空监测解决方案。
- 高速检漏，可进行腔体检漏
- 提高生产率和产量
- 寿命长，不烧丝，有气涌保护
- 可承受工艺化学反应
为尖端的半导体制造工艺和其他气体分析应用提供实时泄漏检测、端点检测和过程监测
- 操作范围从1托到450托
- 卓越的检测极限< 1 ppm
- 长期的可靠性：不需要泵
- 使用标准的KF25连接，易于安装
为关键工艺环境提供实时泄漏检测和端点检测
- 操作范围为10 mTorr至1 Torr
- 优秀的检测限可低至低ppm水平
- 长期的可靠性：不需要泵
- 使用标准的KF25连接，易于安装
优化燃烧效率
- 在一个屏幕上显示效率、O2、CO2、CO 和烟气温度读数
- 易于阅读的背光显示屏vv
- 利用内置压力计和软管套件监测系统压力
- 使用 FLUE-Mate 移动应用程序快速生成分析报告的 QR 码
简化和加速气体分析
- 快速分析，仅需 1 至 3 分钟
- 快速温度升降增强了分析能力
- 集成触控 LED 背光显示器可进行直观的仪器控制和状态显示
- 集成触摸面板显示器可进行直观的仪器控制和状态显示
为微型气相色谱应用保持样品温度并降低压力。
- 容易连接到Micro GC Fusion上
- 侧门便于更换过滤器
- 使用快速连接接头，便于采样
- 可带入现场进行现场采样
Micro GC Fusion采用了基于网络的用户界面，与传统的软件相比有几个新的优点。每台仪器都内置了免许可的软件，因此不需要安装。
- 独立于操作系统，
- 免许可，
- 每台仪器都有内置，
- 无需安装
先进的气体分析仪和工业气体分析解决方案
INFICON 提供先进的气体分析仪，为关键工业应用提供精确的气体分析。我们的工具对于精确的气体检测和监测至关重要，有助于各行业在半导体制造工艺优化和环境控制等各个领域保持安全、合规和运营效率。
Transpector® APX 多重压力质谱仪就是一个很好的例子，它通过对多重压力进行实时监测，在残余气体分析方面表现卓越。这款分析仪非常适合半导体制造，因为它能够快速、准确地提供气体成分数据，从而实现对生产环境的精确控制。它的多功能性和准确性使其在保持质量标准和减少流程中断方面具有不可估量的价值。
INFICON的工业气体分析解决方案确保公司能够依赖其气体检测和监测系统的可靠性。借助INFICON工具，各行业能够自信地满足监管标准，提高安全性，并提高流程效率，使其成为现代工业运营的重要组成部分。