薄膜沉积
INFICON的薄膜沉积解决方案可对超薄材料层的形成进行精确控制,这对于高精度制造工艺至关重要。我们的工具可提供实时反馈,提高各个行业的效率并提升产品质量。
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在严苛的应用中达到最高的稳定性
- 精确
- 可靠
- 稳定
- 提供各种电极材料
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INFICON ALD 传感器将石英晶体微天平(QCM)测量的可重复性、精确性和耐用性带入原子层沉积 (ALD)。
- 工作温度高达 450°C
- 气体吹扫管路可防止晶体背面出现沉积材料
- 焊接式 Conflat 法兰 (CF40) 选件
- O 形密封环压缩接头选件
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炫酷抽屉双传感器设计用于在真空室中需要第二晶体的关键过程。
- 双晶体
- 炫酷抽屉晶体支架
- 无内部电缆
- 晶体闸
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炫酷抽屉单传感器允许晶体从侧面安装到传感器中,为没有足够的空间从前面安装晶体的系统提供了便利。
- 无内部电缆
- 炫酷抽屉晶体支架
- 易于安装
- 在配有焊接式 CF40 法兰时可烘烤
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INFICON Crystal 12 传感器与INFICON IC6 薄膜沉积控制器结合使用时,可自动更换其晶体,而无需中断过程。
- 装有 12 颗晶体,可进行可靠的自动转换,从而最大限度延长过程运行时间
- 易于拆卸的旋转传送带允许快速更换所有 12 颗晶体
- 晶体转换由空气驱动完成(竞争产品是使用生热电机),因而晶体温度非常稳定
- 易于拆卸的前沉积罩保护晶体和旋转传送带上不会积存材料,从而最大限度减少拆卸整个传感器以进行维护的必要性
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NFICON CrystalSix 晶体对于要求连续监控速率的长时间过程非常重要。
- 装有 6 颗晶体,可进行可靠的自动转换,从而最大限度延长过程运行时间
- 晶体转换由空气驱动完成(竞争产品是使用生热电机),因而晶体温度非常稳定
- 1/8" 管保持热稳定性,并提供传感器放置的灵活性
- 提供可选晶体闸
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OLED 应用程序提供最佳测量精度
- INFICON ModeLock 技术确保获得最高、最稳定的速率和厚度测量分辨率,即使在速率极低的情况下
- Auto Z 技术通过自动测定沉积材料的 Z 比值,可提高厚度测量的精度
- 一个 Cygnus 2 即可同时、单独或以任何组合方式控制最多 6 个来源,无需使用两个或三个控制器
- 彩色 TFT LCD 显示屏使用户很容易看到过程的进展状况
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经济型双传感器为一个晶体可能不够的 QCM 应用提供简单并且廉价的解决方案。
- 双晶体
- 物有所值
- 薄型设计
- 包括晶体闸
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INFICON 提供各种石英晶体监测仪 (QCM) 传感器馈入件,以适应经济型传感器。
- 可提供2.54厘米(1英寸)的螺栓或CF40(2.75英寸ConFlat®)样式
- 可提供穿孔管接头
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经济型单传感器可使产出达到最高,同时最大限度地降低成本
- 最低的投资,最低的前期成本
- 延长传感器寿命,降低总拥有成本
- 以较少的维护实现最大的产量
- 安装简便
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INFICON 前装式双晶体传感器拥有经实践检验的可靠性和耐用性,提供超越当前市场上的任何传感器头的最佳热稳定性。
- 双晶体
- 晶体闸
- 前装式晶体支架
- 易于安装
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INFICON 前装式单晶体传感器拥有经实践检验的可靠性和耐用性,提供超越当前市场上的任何传感器头的最佳热稳定性。
- 前装式晶体支架
- 易于安装
- 随附 2.54 cm (1 in.) 螺栓馈入装置 / CF40 馈入装置
- 在配有压缩接头时可调长度
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CIGS 薄膜的理想之选
- 监控和控制多达 8 种材料的同时沉积过程
- 从 0.1 至 10,000 Å/s 的沉积速率
- 集成式 EIES 和 QCM 薄膜过程控制
- 12 个继电器输出和 12 个数字输入
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结合了任何其他石英晶体控制器的最佳性能、质量和功能,提供了非凡的价值。
- INFICON ModeLock技术确保了最稳定、最高分辨率的速率和厚度测量,即使在非常低的速率下也是如此。
- 在材料沉积过程中自动确定 Z 比率,从而提高厚度的准确性
- 最多可以同时对六个来源进行编码沉积
- USB数据存储用于屏幕截图、配方存储和数据记录
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采用ModeLock技术构建的紧凑型沉积监测器,以最高的厚度精度、最佳的测量分辨率和最低的速率噪声,最大限度地提高再现性和均匀性
- INFICON ModeLock 技术提供最长的晶体寿命,并确保提供最稳定、最高分辨率的速率和厚度测量,即使在极低的速率下也是如此
- 通过最佳的 QCM 厚度测量,最大限度地提高产量
- 单通道速率和厚度监测器,没有不必要的附加功能,以压缩尺寸并最大限度地降低成本
- EtherCAT通信实现无缝集成
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采用ModeLock技术构建的紧凑型沉积监测器,以最高的厚度精度、最佳的测量分辨率和最低的速率噪声,最大限度地提高再现性和均匀性
- INFICON ModeLock 技术提供最长的晶体寿命,并确保提供最稳定、最高分辨率的速率和厚度测量,即使在极低的速率下也是如此
- 通过最佳的 QCM 厚度测量,最大限度地提高产量
- 单通道速率和厚度监测器,没有不必要的附加功能,以压缩尺寸并尽量降低成本
- 以太网通信实现无缝集成
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在 PCI EXPRESS 卡上实现低成本沉积控制
- PCI Express
- 三个传感器输入,三个控制输出
- 在 PC 中安装多个卡
- 多源共沉积
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INFICON 提供各种石英晶体监测仪 (QCM) 传感器馈入件,以适应多种 QCM 传感器和腔室配置。CF40 (2.75 in. ConFlat®) 和 2.54 cm (1 in.) 螺栓式馈入件提供电气连接、水冷却和空气管的各种组合。
- 提供 2.54 厘米(1 英寸)螺栓或 CF40(2.75 英寸 ConFlat®)款式
- 可用的 Ultra-Torr O 形密封圈压缩接头
- 提供自定义馈入件配置
- 根据要求可提供其他馈入件款式
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INFICON 晶体 100% 通过精度和可靠性测试
- 5 和 6 MHz
- 金、银(用于高热负荷过程)和减压合金(用于电介质材料和半导体过程的光学涂膜)
- 三种方便的封装选择 – 洁净室兼容包装、平板包装和紧凑型包装
- 根据您要求的尺寸和频率定制的晶体
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在要求苛刻的应用中表现卓越的晶体性能
- 六颗晶体
- 位置反馈(视控制器而定)
- 可调长度(带可选法兰)
- 坚固耐用的设计
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高精度顺序或编码沉积控制
- 明亮的彩色液晶显示屏 - 提供英文或中文显示
- 标准RS-232和USB接口(可选RS-232和以太网接口)
- 通过 "快速设置 "菜单、6个上下文敏感按钮和方便的参数设置旋钮,实现简单的设置和操作
- Windows®程序,用于开发、测试和下载过程,并将仪表数据记录到PC上,用于过程分析和质量控制
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SQM-160 使用成熟的 INFICON 石英晶体传感器技术在薄膜沉积过程中测量速率和厚度。两个传感器输入为标准输入,另外四个传感器输入为可选输入。
- 两个标准测量通道,另外四个可选
- 模拟输出便于记录速率/厚度
- 高分辨率选件:0.03 Hz,10 读数/秒
- RS-232 标准接口,可选择连接 USB 或以太网
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STM-2 将 USB 连接的简单与精密测量引擎的精度相结合,在一个结构紧凑、价格便宜的封装内实现所有功能。STM-2 小巧、简单,方便安装和操作。
- 低成本仪器
- USB 连接
- 内部振荡器
- 每秒 10 次测量时的高精度
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real-Time, in situ process monitoring, prevent over-etching, identify chamber clean end point
- 实时的、现场的过程监测
- 防止过度蚀刻, 确定炉室清洁终点
- 识别设备或工艺状态故障
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SemiQCM™ SR sensor is one component of a system for precursor monitoring with the other components being an IMM-200 and FabGuard (version 19.12.00-a or higher).
- 实时的、现场的过程监测
- 防止过度蚀刻,确定炉室清洁终点
- 识别设备或工艺状态故障
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INFICON 溅射传感器专为各种溅射过程而设计。
- 镀金铍铜传感器体和冷却管可实现最佳冷却效果
- 磁铁可偏转自由电子,使其远离监控器晶体
- 利用可弯曲的水管轻松安装,灵活放置传感器
- 后装式晶体插入便于更换晶体
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INFICON UHV 可烘烤晶体传感器拥有经实践检验的可靠性和耐用性,提供超越当前市场上的任何传感器头的最佳热稳定性。
- 高温铜焊和焊接结构
- 烘烤温度高达 450℃
- 晶体闸(选件)
- 前装式晶体支架
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先进的、经济实惠的单层或多层速率控制
- 提供有单层和多层型号
- 专利 ModeLock 技术可避免跳模引起的薄膜厚度误差
- 支持 INFICON Crystal 12®、Crystal Six® 及双传感器自动晶体转换,从而最大化生产力
- XTC/3M 多层型号最多支持 99 个过程、999 层薄膜、32 种薄膜材料、2 个传感器和两种源
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下一代INFICON Zevision沉积控制器的一部分,该控制器提供当今光学镀膜机所需的新专利技术
- 使用 ModeLock 测量系统,以最高的厚度精度、最佳的测量分辨率和最低的速率噪声,最大限度地提高再现性和均匀性
- 利用 ModeLock(最长的晶体使用寿命)最大限度地增加运行次数,同时降低晶体消耗成本
- 通过向后兼容性、逻辑以及在单个流程中使用单个控制器同时运行多个源的可选功能,最大限度地降低集成成本,最大限度地提高集成速度
- 通过全球专家应用支持,最大限度地降低开发风险,优化系统性能
用于精确薄膜沉积和监测的精密工具
薄膜技术在精密制造工艺中发挥着关键作用,它能够在各种表面上沉积超薄材料层。INFICON 在薄膜沉积方面的专业知识提供了高精度解决方案,确保依赖先进涂层的行业获得一致、可靠的结果。在这些工艺中,我们的关键工具之一是石英晶体微天平 (QCM),它能够监测沉积速率并确保精确的材料分层。
通过使用INFICON的薄膜计量设备,制造商可以完全控制薄膜沉积过程。这些精密测量工具旨在保持精确性和一致性,这对于半导体、光学和先进材料等领域至关重要。QCM技术的整合确保即使是最精细的薄膜也能达到严格的标准。
INFICON的工具套件不仅能够改善薄膜沉积,还能提供实时反馈,从而更轻松地实时调整参数。这有助于提高效率、减少浪费并提升产品质量,从而巩固我们致力于推进薄膜技术解决方案的承诺。