作为真空技术的重要参与者，塑造半导体市场
作为真空技术领域的领导者，INFICON在推动半导体制造方面发挥着至关重要的作用，提供无与伦比的精度，塑造了电子工业的未来。
在半导体制造领域，基于合作的伙伴关系是成功的基本要素。Quartr 评选出的半导体行业 120 多家重要公司，进一步巩固了我们在真空技术领域的领先地位。这份经过精心策划的名单证明了我们在半导体领域做出的重大贡献和发挥的先锋作用。
我们入选 Quartr 的榜单，彰显了公司在推动半导体制造业发展方面的重要地位。INFICON 在半导体生态系统中的知名度和可信度得到了提高。这种认可不仅验证了我们的专业知识和能力，还为我们打开了通往合作与创新新机遇的大门。
对我们来说，入选 Quartr 的榜单标志着我们在半导体界的信任和信誉，吸引着追求卓越的客户、投资者和合作者。这种认可也为我们打开了合作和业务增长的大门，使我们能够建立战略合作伙伴关系，扩大市场占有率。 总之，Quartr 的榜单是驾驭半导体行业的重要工具。它不仅证明了 INFICON在真空技术领域的领先地位，还为行业内的合作、增长和创新铺平了道路。
半导体行业的精确真空控制
在半导体制造中，我们的真空控制产品在各种工艺步骤中发挥着重要作用，并确保对电子设备生产所必需的真空条件进行精确控制。在所有工艺步骤中，我们的真空控制产品都能确保半导体制造的完整性和可靠性，为生产高质量的电子设备做出贡献，为我们的现代世界提供动力。
晶体拉制
在晶体拉制过程中，我们的电容真空计系列可以控制拉制腔内的工艺压力，从而生长出完美无瑕的硅晶体。这种精确的压力控制对于实现最佳晶体生长至关重要，并有助于提高半导体材料的质量和纯度。
氧化/栅极电介质和离子注入
在氧化/栅极电介质和离子注入等工艺中，我们的真空控制产品可确保稳定的真空环境。电容真空计系列可监控工艺压力，而皮拉尼真空计和冷阴极真空计则可提供全系统压力控制。这种细致的调节对于获得理想的材料特性和掺杂精度至关重要，而材料特性和掺杂精度对半导体器件的性能至关重要。
光刻技术
在光刻工艺中，我们的真空控制解决方案（包括电容真空计和皮拉尼真空计）以及热离子真空计和冷阴极可实现工艺系统内的精确压力控制。真空元件可确保无泄漏连接，有助于提高光刻工艺的稳定性和准确性。
蚀刻
在蚀刻工艺中，我们的真空控制产品，特别是电容式真空计，可调节工艺压力，实现精确的材料去除。全系统的压力控制通过电容计、皮拉尼计、热离子计和冷阴极的组合来实现，从而确保蚀刻的一致性和高工艺可重复性。此外，还采用了光学气体分析装置 Augent® OPG550 来监测蚀刻过程中使用的气体成分。这有助于确保工艺稳定性和精确的材料去除。
CVD、PVD、ALD、EPI 和 RTP
在 CVD、PVD、ALD、EPI 和 RTP 等工艺中，我们的真空控制产品在调节工艺压力、确保材料精确沉积和开发方面发挥着至关重要的作用。电容真空计系列可监控过程压力，而热离子计、冷阴极和真空配件则有助于稳定的系统压力控制，提高过程均匀性和设备性能。我们的光学气体分析仪 Augent® OPG550 可监控材料沉积过程中的气体成分，确保最佳条件。
