Haben Sie den Druck unter Kontrolle?

Drucksteuerung und -überwachung bei SEMI ALD Prozessen

Ort

online

Sprache

Englisch

Dauer

1 h

Beschreibung

Die Atomlagenabscheidung (ALD) bietet Sub-Nanometer-Präzision für die Entwicklung von Halbleiterbauelementen, vorausgesetzt, Sie beherrschen die Prozessparameter. Durch die Steuerung des Drucks können Sie die Menge des eingespritzten Trägergases, die Abscheidungsrate oder die Homogenität des Prozesses bestimmen.

Für zuverlässige, hochpräzise Messungen in einer aggressiven ALD-Prozessumgebung sind viele Tricks und Kenntnisse erforderlich.

In diesem Webinar erfahren Sie mehr über die speziellen Anforderungen an Vakuummessgeräte in ALD-Prozessen und Lösungen zur Druckregelung und -überwachung in Teilbereichen wie

Trägergas- und Gaszufuhr
Kontrolle des Abscheidungsdrucks
Überwachung der Vorlauf- und Schleusenkammer