Mitgestaltung des Halbleitermarktes als Schlüsselakteur in der Vakuumtechnik
Als führendes Unternehmen in der Vakuumtechnologie spielen wir eine entscheidende Rolle bei der Weiterentwicklung der Halbleiterherstellung und bieten eine unvergleichliche Präzision, die die Zukunft der Elektronikindustrie prägt.
Im Bereich der Halbleiterherstellung sind Zusammenarbeit und Partnerschaft wesentliche Zutaten für den Erfolg. Unsere Position als führendes Unternehmen im Bereich der Vakuumtechnologie wird durch die Aufnahme in die prestigeträchtige Quartr-Liste der 120+ wichtigsten Unternehmen der Halbleiterindustrie weiter gestärkt. Diese Liste ist ein Beweis für unsere bedeutenden Beiträge und unsere Vorreiterrolle in der Halbleiterlandschaft.
Die Aufnahme in die Quartr-Liste unterstreicht den Status des Unternehmens als wichtiger Akteur bei der Förderung der Halbleiterfertigung. Durch die Anerkennung in einer ausgewählten Gruppe von Branchenführern gewinnt INFICON an Sichtbarkeit und Glaubwürdigkeit innerhalb des Halbleiter-Ökosystems. Diese Anerkennung bestätigt nicht nur unser Fachwissen und unsere Fähigkeiten, sondern öffnet auch Türen zu neuen Möglichkeiten der Zusammenarbeit und Innovation.
Für uns bedeutet die Aufnahme in die Quartr-Liste Vertrauen und Glaubwürdigkeit innerhalb der Halbleiter-Community und zieht Kunden, Investoren und Kooperationspartner an, die nach Spitzenleistungen streben. Diese Anerkennung öffnet auch Türen für die Zusammenarbeit und das Geschäftswachstum und ermöglicht es uns, strategische Partnerschaften zu schließen und unsere Marktpräsenz zu erweitern. Insgesamt ist die Quartr-Liste ein wertvolles Instrument, um sich in der Halbleiterlandschaft zurechtzufinden. Sie bestätigt nicht nur die führende Rolle des Unternehmens in der Vakuumtechnologie, sondern ebnet auch den Weg für neue Möglichkeiten der Zusammenarbeit, des Wachstums und der Innovation in der Branche.
Präzise Vakuumkontrolle für die Halbleiterindustrie
In der Halbleiterfertigung spielen unsere Vacuum Control Produkte eine wichtige Rolle in verschiedenen Prozessschritten und gewährleisten eine präzise Kontrolle der Vakuumbedingungen, die für die Produktion elektronischer Geräte unerlässlich sind. In allen Prozessschritten gewährleisten unsere Vakuumkontrollprodukte die Integrität und Zuverlässigkeit der Halbleiterherstellung und tragen so zur Produktion hochwertiger elektronischer Geräte bei, die unsere moderne Welt antreiben.
Ziehen von Kristallen
Beim Kristallziehen, bei dem makellose Siliziumkristalle gezüchtet werden, kontrolliert unsere Familie der Kapazitätsmanometer den Prozessdruck in den Ziehkammern. Diese präzise Druckkontrolle ist für ein optimales Kristallwachstum unerlässlich und trägt zur Qualität und Reinheit von Halbleitermaterialien bei.
Oxidation/Gate-Dielektrika und Ionenimplantation
Bei Prozessen wie der Oxidation/Gate-Dielektrik und der Ionenimplantation sorgen unsere Produkte zur Vakuumkontrolle für eine stabile Vakuumumgebung. Die Familie der Kapazitätsmanometer überwacht den Prozessdruck, während die Pirani-Messgeräte und Kaltkathoden-Messgeräte eine systemweite Druckkontrolle ermöglichen. Diese sorgfältige Regulierung ist entscheidend für das Erreichen der gewünschten Materialeigenschaften und der Dotierungsgenauigkeit, die für die Leistung von Halbleiterbauteilen unerlässlich sind.
Lithographie
In der Lithografie ermöglichen unsere Lösungen für die Vakuumkontrolle, einschließlich Kapazitätsmanometer und Pirani-Messgeräte, zusammen mit Heiß-Ionisationsmessgeräte und Kaltkathoden, eine präzise Druckkontrolle in Prozesssystemen. Vakuumkomponenten sorgen für leckfreie Verbindungen und tragen so zur Stabilität und Genauigkeit von Lithografieprozessen bei.
Ätzen
Bei Ätzprozessen regulieren unsere Vacuum Control Produkte, insbesondere die Kapazitätsmanometer, den Prozessdruck, um einen präzisen Materialabtrag zu ermöglichen. Die systemweite Druckkontrolle wird durch eine Kombination von Kapazitäts- und Pirani-Messgeräte zusammen mit Heiß-Ionisationsmessgeräte und Kaltkathoden erreicht, die ein gleichmäßiges Ätzen und eine hohe Prozesswiederholbarkeit gewährleisten. Auch das optische Gasanalysegerät Augent® OPG550 wird zur Überwachung der Zusammensetzung der beim Ätzen verwendeten Gase eingesetzt. Dies trägt dazu bei, Prozessstabilität und präzisen Materialabtrag zu gewährleisten.
CVD, PVD, ALD, EPI und RTP
Bei Prozessen wie CVD, PVD, ALD, EPI und RTP spielen unsere Vacuum Control Produkte eine entscheidende Rolle bei der Regulierung des Prozessdrucks und gewährleisten eine präzise Materialabscheidung und -entwicklung. Die Familie der Kapazitätsmanometer überwacht den Prozessdruck, während Heiß-Ionisationsmessgeräte, Kaltkathoden und Vakuum-Komponenten zu einer stabilen Systemdruckregelung beitragen und so die Prozessgleichmäßigkeit und die Anlagenleistung verbessern. Unser optischer Gasanalysator Augent® OPG550 überwacht die Gaszusammensetzung während der Materialabscheidung und sorgt für optimale Bedingungen.
