Optische Gasanalysatoren
Quantus® HP100
Leckerkennung in Echtzeit, Endpunkt-Erkennung und Prozessüberwachung
Der Quantus HP100 Gasanalysator basiert auf der Technologie der optischen Selbstplasma-Emissionsspektroskopie (SPOES) und wurde für die Echtzeit-Detektion von Lecks, die Erkennung von Endpunkten und die Prozessüberwachung bei der Halbleiterherstellung entwickelt. Der Quantus HP100 verfügt über eine ausgezeichnete Empfindlichkeit, einen kompakten Formfaktor und bietet einen großen Betriebsdruckbereich ohne kostspielige Pumpen. Damit ist er für die Prozessüberwachung und den Schutz in den meisten Halbleiterwerkzeugen bestens geeignet.
Merkmale
- Betriebsbereich von 1 Torr - 450 Torr für Argon und 1 Torr - 120 Torr für Stickstoff (variiert für andere Gase)
- Niedrige Nachweisgrenzen <1 ppm
- Einfache Installation über einen Standard KF25-Anschluss
- Schnelle Probenahme (maximal 20 Hz)
- Geringe Stellfläche (H x B x L): 6,4 x 6,0 x 8,3 Zoll [162 x 153 x 210 mm]
- Geringer Wartungsaufwand, keine Pumpen oder Verbrauchsmaterialien erforderlich
- Bequeme, vor Ort austauschbare Plasmazelle
- Weltweite Expertenunterstützung für Ihre speziellen Prozessanforderungen
Spezifikationen
| Betriebsdruck | 1 Torr - 450 Torr (je nach Anwendung) |
| Leistung des Spektrometers | 200 bis 850 Nanometer Wellenlänge (UV-VIS) 16-Bit-Vollbereichsauflösung, 3648 Pixel |
| Nachweisgrenze | < 1 ppm (je nach Anwendung) |
| Belichtungszeit | Minimum of 1 ms |
| Vakuumanschluss | KF25 |
Das Produkt wird in folgenden Märkten verwendet
