Optische Gasanalysatoren

Quantus® HP100

Leckerkennung in Echtzeit, Endpunkt-Erkennung und Prozessüberwachung

Quantus HP100

Product configurator

Gemini™ MxG5xx

Type
Sensor version
Ionization chamber
Emmision current
Flange connection to vacuum chamber
Switching function
Electrical connection
Digital interface
Analog output signal
Your configuration
inficon-gauge
Gemini™ MxG5xx
Flange
DN 16 ISO-KF
Switching functions
None
Electrical Connection
FCC, 8-pin
Digital Interface
None
Measurement range
1.2 - 8.68 V
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Personal information
Product
inficon-gauge
Gemini™ MxG5xx
Gemini™ MAG500
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Der Quantus HP100 Gasanalysator basiert auf der Technologie der optischen Selbstplasma-Emissionsspektroskopie (SPOES) und wurde für die Echtzeit-Detektion von Lecks, die Erkennung von Endpunkten und die Prozessüberwachung bei der Halbleiterherstellung entwickelt. Der Quantus HP100 verfügt über eine ausgezeichnete Empfindlichkeit, einen kompakten Formfaktor und bietet einen großen Betriebsdruckbereich ohne kostspielige Pumpen. Damit ist er für die Prozessüberwachung und den Schutz in den meisten Halbleiterwerkzeugen bestens geeignet.

Merkmale

  • Betriebsbereich von 1 Torr - 450 Torr für Argon und 1 Torr - 120 Torr für Stickstoff (variiert für andere Gase)
  • Niedrige Nachweisgrenzen <1 ppm
  • Einfache Installation über einen Standard KF25-Anschluss
  • Schnelle Probenahme (maximal 20 Hz)
  • Geringe Stellfläche (H x B x L): 6,4 x 6,0 x 8,3 Zoll [162 x 153 x 210 mm]
  • Geringer Wartungsaufwand, keine Pumpen oder Verbrauchsmaterialien erforderlich
  • Bequeme, vor Ort austauschbare Plasmazelle
  • Weltweite Expertenunterstützung für Ihre speziellen Prozessanforderungen

Spezifikationen

Betriebsdruck1 Torr - 450 Torr (je nach Anwendung)
Leistung des Spektrometers200 bis 850 Nanometer Wellenlänge (UV-VIS) 16-Bit-Vollbereichsauflösung, 3648 Pixel
Nachweisgrenze< 1 ppm (je nach Anwendung)
BelichtungszeitMinimum of 1 ms
VakuumanschlussKF25
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