Optische Gasanalysatoren
Quantus® LP100
Endpunkterkennung und Dichtheitsprüfung in Echtzeit
Product configurator
Gemini™ MxG5xx
Type
Sensor version
Ionization chamber
Emmision current
Flange connection to vacuum chamber
Switching function
Electrical connection
Digital interface
Analog output signal
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Das Gasanalysegerät Quantus LP100 von INFICON bietet Lecksuche und Endpunkterkennung für kritische Prozessumgebungen in Echtzeit. Viele Prozesse sind leckempfindlich oder erfordern eine Endpunkterkennung.
Das Quantus LP100-Gasanalysegerät ist ausgelegt, um kleine Änderungen in empfindlichen Prozessumgebungen in Echtzeit wahrzunehmen und entsprechend zu reagieren, so dass der Ausschuss reduziert und die Ausbeuten verbessert werden.
Merkmale
- Praktische vor Ort austauschbare Plasmazelle
- Einfache Installation mithilfe eines standardmäßigen KF25-Anschlusses
- Wartungsfreundlich
- Ausgezeichnete Nachweisgrenzen bis in den unteren ppm-Bereich
- Betriebsbereich 10 Millitorr bis 1 Torr
- Langfristige Zuverlässigkeit: keine Pumpen erforderlich
- Geringe Betriebskosten
- Schnelle Samplingfrequenz von 10 Hz
- Kleine Standfläche: (H x B x L) 87 x 151 x 241 mm (3,4 x 5,9 x 9,5 Zoll)
- Support durch erfahrene, im Außendienst geschulte INFICON-Ingenieure
Spezifikationen
Betriebsdruck | 0.01 to 1 Torr (application dependent) |
Leistung des Spektrometers | 200 to 850 nanometer wavelengths (UV-VIS) 16-bit full-scale resolution, 2048 pixels |
Nachweisgrenze | To low ppm levels (application dependent) |
Belichtungszeit | Minimum of 1 ms |
Vakuumanschluss | KF25 |
Das Produkt wird in folgenden Märkten verwendet