Evolución en la Muestreo de Metrología

El Metrology Sampling Optimizer (MSO) está diseñado para gestionar la muestreo de metrología de referencia utilizando reglas basadas en tiempo o porcentaje. Más allá de la muestreo de referencia, se pueden configurar reglas para gestionar la muestreo basada en eventos. Las reglas de eventos aseguran que los lotes en riesgo sean muestreados después de un evento de caída de herramienta o de cualificación. Para los tres casos: muestreo por tiempo, por porcentaje y por eventos, el MSO optimiza el plan de muestreo para evitar muestreos independientes o aditivos. Esta optimización minimiza la cantidad de lotes necesarios para cumplir con todas las reglas de muestreo.

La colaboración con clientes piloto ha permitido a nuestro equipo de desarrollo mejorar rápidamente la aplicación.

• Nuevas funciones en nuestro Dashboard de Cobertura de Muestreo permiten una investigación rápida y una mejor comprensión del riesgo del producto
• Actualizaciones en la interfaz de usuario (UI) hacen que la gestión de reglas sea rápida y fácil
• Nuevos escenarios de fábrica se incluyen en nuestras actualizaciones de la lógica central para satisfacer las necesidades de los clientes
• Muestreo adaptativo para permitir que el muestreo se ajuste a las necesidades cambiantes de la fábrica

Uno de los principales objetivos de un plan de muestreo es asegurarse de que no se estén submuestreando herramientas. Se desarrollaron dos parámetros para el Dashboard de Cobertura de Muestreo que permiten a los ingenieros establecer un nivel de riesgo aceptable por herramienta:

• Número de lotes en riesgo
• Número de obleas en riesgo
• Tiempo hasta la detección

Estos límites se muestran en el dashboard mediante colores fáciles de diagnosticar (rojo, amarillo, verde) para resaltar herramientas o módulos que están fuera de los límites aceptables. Los usuarios pueden ajustar las tasas de muestreo para asegurarse de que ninguna herramienta esté siendo submuestreada o sobremuestreada.

Las mejoras en la interfaz de usuario para la configuración de reglas se centraron en simplificar el proceso de creación y edición de reglas. Se realizaron cambios significativos en el diseño que dieron como resultado un diseño limpio y claro. Se añadió funcionalidad adicional para facilitar la búsqueda de pasos al vincular pasos de procesamiento con la metrología.

Las siguientes mejoras en la lógica central fueron desarrolladas para manejar nuevos casos de muestreo:

Condiciones de Etiqueta – No todos los lotes que pasan por una herramienta de proceso pueden ser etiquetados. Algunos lotes no tienen una receta en los pasos de metrología. Otros lotes son de un tipo de producto o lote que nunca debe ser muestreado. La función de condiciones de etiqueta le indica al sistema qué lotes se pueden muestrear cuando se cumple una condición de regla.

Metrología Vinculada – Un usuario puede asegurar que el mismo lote sea etiquetado en los pasos de metrología vinculados. El ejemplo más común es asegurar que el mismo lote sea etiquetado para una medición antes/después del proceso.

Límites de Acción del MES – Se añadieron límites para las reglas a fin de asegurar que los lotes sean muestreados y que los datos de metrología sean recibidos. Si no se cumplen las condiciones de muestreo y el MSO no puede encontrar material para medir, estos límites permiten que el MSO evite que la fábrica incremente continuamente el riesgo al interactuar con el MES (es decir, sacar una herramienta de línea).

Integración de FabGuard® FDC para Aprendizaje Rápido

La integración de MSO y FabGuard FDC proporcionará la capacidad de mejorar rápidamente la detección de fallas. Cuando se detecta una falla, MSO forzará una medición de metrología para determinar si hubo un resultado de metrología defectuoso correspondiente. Si hubo un resultado de metrología defectuoso pero no hubo señal de detección de fallas, entonces la información puede proporcionarse al equipo de ingeniería para investigar por qué no se detectó una falla e identificar áreas para mejorar la detección o la sensorización. La combinación de ambos productos llevará a nuevos aprendizajes que no serían posibles de forma independiente.

Muestreo Adaptativo Basado en Resultados de Escaneo y Gestión de WIP de Metrología

MSO continuará mejorando a medida que añadimos tasas de muestreo adaptativas basadas en resultados de escaneo, así como gestionar activamente la cola de WIP en los pasos de metrología para escenarios con capacidad limitada.