Sion™
RF Sion™ Detector para plasma detección de arco y control de punto final
Product configurator
Gemini™ MxG5xx
Reducción de la pérdida de obleas y mejora del rendimiento
La formación de arcos durante el procesamiento por plasma puede dañar el blanco y la cámara, lo que a su vez puede dañar el sustrato y generar partículas. A medida que disminuye el tamaño de las características, los dispositivos microelectrónicos son cada vez más susceptibles a los daños inducidos por el arco. El arco eléctrico puede producirse en cualquier proceso asistido por plasma, como el depósito físico en fase vapor ionizado (iPVD), el depósito químico en fase vapor mejorado por plasma (PECVD) y el grabado. El detector de arco Sion de INFICON proporciona una primera línea de defensa crucial. Sion permite detectar microarcos rápidamente y reaccionar ante ellos antes de que se produzcan daños o desechos significativos. El sistema proporciona detección y análisis en tiempo real de eventos de microarcos de plasma.
Sion™ RF Detector también le ofrece un control más estricto y un mayor rendimiento en los procesos de deposición química en fase vapor (CVD) y de grabado al determinar de forma fiable y precisa el punto final limpio de la cámara. Un punto final más preciso significa menores niveles de partículas en la oblea y más tiempo entre ciclos de mantenimiento preventivo.
Sion, que ofrece una serie de ventajas sobre los controladores basados en espectrómetros de emisión óptica (OES), funciona con el sistema de integración y análisis FabGuard® para aumentar el rendimiento y reducir las pérdidas de tiempo y materiales que se producen cuando la limpieza de la cámara es insuficiente o excesiva.
Características
- Adaptable fácilmente al conjunto de herramientas existente
- Instalación de sensor no invasiva
- Recopilación de datos de alta velocidad (250 kHz)
- Gestión de datos integrada con FabGuard
