光学式ガス分析計

Quantus® HP100

常時漏えい検知、エンドポイント検知、プロセスモニタリング

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INFICONのQuantus HP100ガス分析装置はセルフプラズマ光学発光分光法（SPOES）技術をベースに、半導体製造中に常時リーク検出、終点検出、プロセスモニタリングを行うようデザインされています。Quantus HP100は優れた感度、コンパクト形状、コストのかかるポンプなしに広い圧力範囲での動作を提供し、ほとんどの半導体装置のプロセス監視と保護に適しています。

特徴

動作範囲：アルゴン：1Torr～450Torr、窒素：1Torr～120Torr（他のガス種は異なる）
検出限界値 <1 ppm
KF25の接続規格による簡単な接続
高速サンプリング（最大20Hz）
設置面積（高さ×幅×長さ）：6.4×6.0×8.3インチ［162×153×210mm］。
ポンプや消耗品が不要で、容易なメンテンス性。
現場で交換可能な便利なプラズマセル
お客様のプロセスニーズにワールドワイドで対応するエキスパートによるサポート体制

仕様

動作圧力	1Torr〜450Torr（アプリケーションに依る。）

スペクトロメーターの性能	200～850ナノメートル波長（UV-VIS） 16ビットフルスケール分解能、3648ピクセル

検出限界	< 1 ppm (アプリケーション依存)

露光時間	最小1ms

接続	KF25