광학 가스 분석기
Quantus® HP100
실시간 누설 감지, 엔드포인트 감지 및 프로세스 모니터링
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Product configurator
Gemini™ MxG5xx
Type
Sensor version
Ionization chamber
Emmision current
Flange connection to vacuum chamber
Switching function
Electrical connection
Digital interface
Analog output signal
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인피콘 Quantus HP100 가스 분석기는 자체 플라즈마 광학 방출 분광법(SPOES) 기술을 기반으로 하며 반도체 제조 중 실시간 누설 감지, 엔드포인트 감지 및 공정 모니터링을 제공하도록 설계되었습니다. Quantus HP100은 뛰어난 감도, 컴팩트한 폼 팩터, 고가의 펌프 없이도 넓은 작동 압력 범위를 제공하므로 대부분의 반도체 툴에서 공정 모니터링 및 보호에 매우 적합합니다.
특징
- 작동 범위: 아르곤의 경우 1 토르 - 450 토르, 질소의 경우 1 토르 - 120 토르 (가스 종류에 따라 다름)
- 1ppm 미만의 낮은 검출 한계
- KF25 연결을 사용한 간편한 설치
- 빠른 샘플링(최대 20Hz)
- 작은 설치 공간(가로 x 세로 x 높이): 6.4 x 6.0 x 8.3인치[162 x 153 x 210mm]
- 낮은 유지보수, 펌프 또는 소모품 필요 없음
- 편리한 현장 교체형 플라즈마 셀
- 특정 공정 요구 사항에 대한 전 세계 전문가 지원
사양서
| 작동 압력 | 1 토르 - 450 토르(애플리케이션에 따라 다름) |
| 분광기 성능 | 200~850나노미터 파장(UV-VIS) 16비트 풀스케일 해상도, 3648픽셀 |
| 감지 한도 | < 1ppm 미만(애플리케이션에 따라 다름) |
| 노출 시간 | 최소 1ms |
| 진공 피팅 | KF25 |
